Uniform

Uniform er en alsidig, kunstfokuseret datredaktør designet til at strømline kreative arbejdsgange på tværs af forskellige medier. Det tilbyder et samlet værktøjssæt til høj poly -skulptur, lav poly -modellering, teksturmaleri, normal kortskulptur og 2D -billedskabelse. Brugere kan udnytte den samme børste til at male på høje poly -masker eller pixelkunstbilleder, hvilket eliminerer behovet for tilstandskontakt eller forskellige værktøjer til forskellige objekttyper.

Nøglefunktioner i uniform inkluderer modulære og tilpassede værktøjer til operationer som deformere, filtre, alfa -frimærker og VDM'er. Det understøtter pr. Pixel/toppunktmaleri for præcis kontrol over pixelkunst og lave poly -modeller. Derudover tilbyder uniform direkte mesh-topologi-manipulation til poly-til-poly modellering og retopologi sammen med sømbaseret UV-pakning og voxel-remeshing. Appen inkluderer også en lagstabel-komponitor, der understøtter procedurelag og bruger-reddelige masker til både forskydning og farve på tværs af forskellige objekttyper.

Uniform er optimeret til ydeevne ved hjælp af GPU -acceleration til at håndtere komplekse opgaver glat. Det understøtter arbejdsområder med flere scene, hvilket giver brugerne mulighed for at arbejde på flere scener samtidig inden for en enkelt fil. Appen indeholder også gengivelse i realtid med support til PBR-materialer og NPR-blanding, hvilket gør den velegnet til en lang række kunstneriske og designopgaver. Med sit fokus på fleksibilitet og effektivitet giver Uniform en omfattende platform for kunstnere og designere til at skabe og redigere 3D -modeller og 2D -billeder problemfrit.